옵션
Cinema 4D의 이전 버전(R18이전)에서는, 선택된 컴퍼넌트(버텍스, 엣지, 폴리곤) 모드에 따라 이 툴을 사용해서 몇가지 특수한 기능들을 사용할 수 있었습니다. 이 기능들은 더 이상 컴퍼넌트 모드에 따르지 않고 여기에서 만들어진 선택된 설정을 따릅니다.
다음을 따라 폴리곤을 생성하기 위해 이것을 사용합니다:
임시 지오메트리의 포인트와 엣지는 각각의 요소를 클릭 앤 드래그해서 이동시킬 수 있습니다. (툴의 스냅 기능 또한 동작합니다. 즉, 기존의 포인트와 새 포인트가 기존의 스냅에 추가되어, 엣지를 분리시킵니다.)
그렇게 할 때, 위 에서 설명한 키보드 단축키를 사용할 수 있습니다.
외곽 엣지 또는 포인트를 클릭해서 폴리곤의 외부 모서리 포인트를 생성하고 엣지/엣지 포인트로 이들을 사용할 수 있습니다:
필요한 경우, 엣지는 분리되고 외곽 엣지는 새로 생성된 폴리곤 모서리로 사용됩니다.
임시 엣지는 엣지 사용 모드에서 다음과 같이 생성됩니다:
엣지의 시작과 끝 포인트를 클릭합니다.
시작 포인트를 설정하기 위해서 LMB를 누르고 끝 포인트에서 릴리즈합니다.
생성된 폴리곤들이 닫힌 엣지 라인이면 폴리곤은 생성됩니다.
임시 엣지들은
엣지 포인트들은 임시 엣지들을 연결하기 위해서 클릭될 수 있습니다. 임시 엣지들은 또한 기존 폴리곤들과 '연결'될 수 있습니다.
임시 엣지들 뿐만 아니라 개별 포인트들을 클릭해서 한번에 이동할 수 있습ㅂ니다. 이렇게 할 때, 위 에서 설명한 키보드 단축키를 사용할 수 있습니다.
이 모드일 때, 폴리곤 펜은 브러쉬처럼 동작합니다. 간단히 클릭 앤 드래그해서 폴리곤을 그립니다.
숨겨진 포인트들을 스냅하지 않기 위해서, 스냅 메뉴에서 폴리곤 스냅 옵션을 활성화합니다.
그리는 동안
다른 오브젝트의 표면에서 그릴 때 폴리곤 스냅 옵션은 활성화되어야 합니다. 빈 공간과 오브젝트 표면 사이에 투사 문제가 발생할 수 있습니다.
이 옵션을 활성화하면, 사면 폴리곤 밴드가 생성됩니다. 이것은 다음과 같은 모드들에서 동작합니다:
포인트 모드 사용하기: 첫번째 사각형의 네 포인트를 클릭한 다음 인접한 엣지의 두 포인트를 클릭하면, 자동적으로 이전에 생성된 폴리곤에 연결됩니다.
엣지 모드 사용하기: 엣지를 그리면 (또는 엣지의 끝포인트들을 클릭) 이전에 생성된 폴리곤에 자동적으로 연결됩니다.
이 옵션을 활성화하면, 툴에 스냅 기능이 활성화되어(현재 오브젝트에서만 동작합니다) 포인트들은 다른 포인트들에 그리고 엣지들은 다른 엣지들에 스냅이 가능해집니다- 그에 따라 원본 엣지는 회전하게 됩니다. 같은 위치에 있는 포인트들은 합쳐지게 됩니다. 이 옵션을 해제하면, 요소들은 스냅되지 않고 포인트들은 합쳐지지 않습니다.
미세 조정하는 동안(트윅되는 동안) 이 옵션이 활성화되면, 포인트, 엣지, 폴리곤은 (카메라 화각으로부터) 그 아래에 있는 지오메트리에 투사되게 됩니다. 이 설정은 스냅 설정에 따릅니다.
폴리곤 돌출을 위해(
새 지오메트리를 생성할 때 N-Gon 또는 삼각형과 사각형으로 생성될 지를 이 설정으로 정의합니다.
반원 미리보기를 인터렉티브하게 만들기 위해서
이 설정 역시 상기 호 기능에 적용됩니다. 여기에서 지정된 값보다 두 엣지 폴리곤 사이의 각도가 크게 되면, 호는 폴리곤 서페이스의 하나로 놓이게 되고, 각도가 작거나(또는 같으면), 호는 정확하게 폴리곤 서페이스의 중앙에 놓이게 됩니다.
호가 생성될 때 필요한 포인트 수를 여기에 입력할 수 있습니다. 분할이 많아질수록, 둥근 호 형태가 됩니다.
그리기 모드 폴리곤일 때, 폴리곤들은 브러쉬처럼 칠해질 수 있습니다. 생성되는 폴리곤 밴드는 이 설정에서 정의된 엣지 길이를 가지게 됩니다. 기존 지오메트리가 보충될 때(
매우 조밀한 메쉬들로 작업을 하는 경우에는 원하는 요소에 "닿기"가 어려울 수 있습니다. 예를 들어 여러분이 영향을 주기를 원하는 폴리곤 앞에 놓인 엣지가 있을 경우가 그렇습니다. 이런 경우에는, 툴은 세가지 요소들(포인트, 엣지, 폴리곤)중에 하나로 제한될 수 있습니다. 전체 모드는 세 가지 요소들 모두를 포함합니다.