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폴리곤 펜

옵션

그리기 모드

Cinema 4D의 이전 버전(R18이전)에서는, 선택된 컴퍼넌트(버텍스, 엣지, 폴리곤) 모드에 따라 이 툴을 사용해서 몇가지 특수한 기능들을 사용할 수 있었습니다. 이 기능들은 더 이상 컴퍼넌트 모드에 따르지 않고 여기에서 만들어진 선택된 설정을 따릅니다.

포인트

다음을 따라 폴리곤을 생성하기 위해 이것을 사용합니다:

    폴리곤이 가져야 하는 모서리 포인트들의 전체 위치를 클릭합니다.(이 작업을 수행하는 순서는 중요하지 않습니다.) 이 포인트들은 선택된 오브젝트들의 포인트, 엣지, 폴리곤에 스냅이 가능합니다..
    첫번째 포인트나 생성되는 마지막 포인트를 클릭할 때 폴리곤이 생성됩니다.
    폴리곤이 생성되는 동안, 임시 지오메트리가 프리뷰 형태로 표시됩니다.(Esc키를 눌러서 삭제할 수 있습니다):

임시 지오메트리의 포인트와 엣지는 각각의 요소를 클릭 앤 드래그해서 이동시킬 수 있습니다. (툴의 스냅 기능 또한 동작합니다. 즉, 기존의 포인트와 새 포인트가 기존의 스냅에 추가되어, 엣지를 분리시킵니다.)

그렇게 할 때, 에서 설명한 키보드 단축키를 사용할 수 있습니다.

외곽 엣지 또는 포인트를 클릭해서 폴리곤의 외부 모서리 포인트를 생성하고 엣지/엣지 포인트로 이들을 사용할 수 있습니다:

필요한 경우, 엣지는 분리되고 외곽 엣지는 새로 생성된 폴리곤 모서리로 사용됩니다.

엣지

폴리곤들은 임시 엣지들로 생성됩니다. 사용되지 않는 임시 엣지들은 삭제됩니다.

임시 엣지는 엣지 사용 모드에서 다음과 같이 생성됩니다:

엣지의 시작과 끝 포인트를 클릭합니다.

시작 포인트를 설정하기 위해서 LMB를 누르고 끝 포인트에서 릴리즈합니다.

생성된 폴리곤들이 닫힌 엣지 라인이면 폴리곤은 생성됩니다.

임시 엣지들은 Cmd/Ctrl 키와 함께 돌출될 수 있고 반면에 폴리곤은 생성됩니다.

엣지 포인트들은 임시 엣지들을 연결하기 위해서 클릭될 수 있습니다. 임시 엣지들은 또한 기존 폴리곤들과 '연결'될 수 있습니다.

임시 엣지들 뿐만 아니라 개별 포인트들을 클릭해서 한번에 이동할 수 있습ㅂ니다. 이렇게 할 때, 에서 설명한 키보드 단축키를 사용할 수 있습니다.

폴리곤

이 모드일 때, 폴리곤 펜은 브러쉬처럼 동작합니다. 간단히 클릭 앤 드래그해서 폴리곤을 그립니다.

숨겨진 포인트들을 스냅하지 않기 위해서, 스냅 메뉴에서 폴리곤 스냅 옵션을 활성화합니다.

그리는 동안 Shift 키를 누르면, 폴리곤의 밴드가 기존 엣지에서 생성됩니다.(각각의 엣지 길이는 임시적으로 폴리곤 브러쉬 반경으로 사용됩니다. ) 어떤 브러쉬와 같이, 폴리곤 펜의 반경(폴리곤 브러쉬 반경)은 MMB를 사용해서 수정가능합니다. '브러쉬 스트로크'는 기존 엣지들에 스냅되거나 삭제될 수 있습니다. 엣지 길이는 자동적으로 조절됩니다.

다른 오브젝트의 표면에서 그릴 때 폴리곤 스냅 옵션은 활성화되어야 합니다. 빈 공간과 오브젝트 표면 사이에 투사 문제가 발생할 수 있습니다.

쿼드 스트립 모드

이 옵션을 활성화하면, 사면 폴리곤 밴드가 생성됩니다. 이것은 다음과 같은 모드들에서 동작합니다:

포인트 모드 사용하기: 첫번째 사각형의 네 포인트를 클릭한 다음 인접한 엣지의 두 포인트를 클릭하면, 자동적으로 이전에 생성된 폴리곤에 연결됩니다.

엣지 모드 사용하기: 엣지를 그리면 (또는 엣지의 끝포인트들을 클릭) 이전에 생성된 폴리곤에 자동적으로 연결됩니다.

자동 붙이기

이 옵션을 활성화하면, 툴에 스냅 기능이 활성화되어(현재 오브젝트에서만 동작합니다) 포인트들은 다른 포인트들에 그리고 엣지들은 다른 엣지들에 스냅이 가능해집니다- 그에 따라 원본 엣지는 회전하게 됩니다. 같은 위치에 있는 포인트들은 합쳐지게 됩니다. 이 옵션을 해제하면, 요소들은 스냅되지 않고 포인트들은 합쳐지지 않습니다.

재투영 결과

폴리곤 밴드(폴리곤 스냅)를 사용해서 생성되는 멋진 밴드는 조소 오브젝트에 칠해졌고, 돌출된 루프 엣지는 재투영 결과를 활성화해서 맞게 조정되었습니다.

미세 조정하는 동안(트윅되는 동안) 이 옵션이 활성화되면, 포인트, 엣지, 폴리곤은 (카메라 화각으로부터) 그 아래에 있는 지오메트리에 투사되게 됩니다. 이 설정은 스냅 설정에 따릅니다.

돌출에서 동일 평면상의 엣지 생성하기

폴리곤 돌출을 위해(Cmd/Ctrl 키), 이 옵션은 돌출된 폴리곤이 원본 위치를 유지해야 하거나(옵션 해제) 삭제되어야 할지를 정의합니다. 이 옵션은 존재하는 서페이스에서 돌출이 평행하게 발생할 경우에만 효과를 가집니다.(즉, 위 그림과 같은 수평 구조)

Ngons 생성하기

새 지오메트리를 생성할 때 N-Gon 또는 삼각형과 사각형으로 생성될 지를 이 설정으로 정의합니다.

반 원 생성하기

3개의 곡선 엣지들. 왼쪽은 반 원 생성하기 해제, 오른쪽은 사용.

반원 미리보기를 인터렉티브하게 만들기 위해서 ShiftCmd/Ctrl를 누르면서 엣지 위에 커서를 가져갑니다. 이 옵션이 활성화되면, 엣지 형태의 반원이 표시되게 됩니다.

호 방향 최대 각도 [0..180°]

정의된 각도에 따라, 호는 폴리곤 서페이스 위에 놓이거나 중간 각도 위에 생깁니다.

이 설정 역시 상기 호 기능에 적용됩니다. 여기에서 지정된 값보다 두 엣지 폴리곤 사이의 각도가 크게 되면, 호는 폴리곤 서페이스의 하나로 놓이게 되고, 각도가 작거나(또는 같으면), 호는 정확하게 폴리곤 서페이스의 중앙에 놓이게 됩니다.

엣지 분할 [0..500]

호가 생성될 때 필요한 포인트 수를 여기에 입력할 수 있습니다. 분할이 많아질수록, 둥근 호 형태가 됩니다.

폴리곤 크기 [0.001..+∞m]

그리기 모드 폴리곤일 때, 폴리곤들은 브러쉬처럼 칠해질 수 있습니다. 생성되는 폴리곤 밴드는 이 설정에서 정의된 엣지 길이를 가지게 됩니다. 기존 지오메트리가 보충될 때(Shift) 조정된 반경이 사용됨에 주의하세요.

트위킹 모드

매우 조밀한 메쉬들로 작업을 하는 경우에는 원하는 요소에 "닿기"가 어려울 수 있습니다. 예를 들어 여러분이 영향을 주기를 원하는 폴리곤 앞에 놓인 엣지가 있을 경우가 그렇습니다. 이런 경우에는, 툴은 세가지 요소들(포인트, 엣지, 폴리곤)중에 하나로 제한될 수 있습니다. 전체 모드는 세 가지 요소들 모두를 포함합니다.