조소 대칭
왼쪽의 오브젝트는 미러되었고 (-X) 두 절반이 정확히 같습니다; 평균화시키기 기능(오른쪽)은 더 균이한 결과를 만듭니다.미러하기/평균화시키기 기능은 레이어의 컨텐츠나 전체 오브젝트를 그 오브젝트 축면을 따라서 이후에 미러링하는데 사용됩니다. 이 기능은 높은 분할 레벨로 작업하고 대칭 브러쉬가 너무 느릴 경우에 매우 유용합니다. 최종 오브젝트의 절반만 편집할 수 있고 작업이 끝났을 때 간단하게 미러할 수 있습니다.
기본적으로, 오브젝트들은 대칭이어야 하고 오브젝트 축은 대칭 면에 놓여야 합니다. 그렇지 않으면 원하지 않은 결과를 얻게 됩니다.
미러하기/평균화시키기 기능을 사용하는데에는 두가지 방법이 있음에 유의하세요:
- 대화창에서 (
명령을 통해서 접속하기) -
메뉴에서 (명령어 편집하기 매니저에서 핫키를 적용할 수 있습니다.)
두 기능은 동일합니다.
다양한 미러하기와 평균화시키기 기능들은 마스크와 함께 쉽게 구별할 수 없기 때문에 , 다음 이미지는 각 옵션들의 효과를 정확하게 보여줍니다. (완전히 대칭 오브젝트의 왼쪽 팔은 변형되고 디테일/마스크가 추가되었습니다.):
‘초기 길이’에 표시된 디테일은 분리된, 활성화된 레이어에 놓입니다. 왼 손의(또한 분리된 레이어에서) 새끼 손가락이 형태가 바뀐 것에 주의하세요.
가장 가까운 포인트 찾기 옵션을 체크한 미러링이 성공적임.이 옵션을 체크하면, 그에 따라 내부 알고리즘이 최적화되어, 오브젝트들은 더 이상 완벽하게 대칭일 필요가 없음을 의미합니다. 축 근처의 포인트들은 이제 축에 스냅이 가능합니다. 대부분의 경우, 이 기능은 더 나은 결과를 가져오지만 매우 비대칭적인 오브젝트들(반구와 같은)과 함께 잘못된 결과 역시 가져올 수 있습니다. 이 옵션은 기본값이 해제되어 있습니다. 미러링/대칭이 잘못된 경우, 이 옵션을 다시 체크하면, 가능한 결과를 생성할 수 있습니다.
이 각각의 명령들은 명령어 편집하기 매니저에서 검색바에 ‘X’, ‘Y’ , ‘Z’를 입력해서 찾을 수 있습니다. (핫키를 적용할 수도 있습니다.) 이 명령들은 +X, -X, +Y, -Y, +Z and -Z로 표시됩니다.
오브젝트 절반은 정확하게 미러됩니다.
오브젝트 절반이 미러되어야 하는 쪽을 선택합니다.예를 들어, +X는 -X축에서 +X축으로 모두 미러합니다.
레이어 미러
현재 활성화된 레이어의 컨텐츠가 선택된 축에서 미러됩니다.
마스크 미러
현재 활성화된 레이어에서 (’브러쉬’로 변형된 것이 아닌) 마스크만이 선택된 축에서 미러됩니다.
오브젝트 미러
모든 분할 레벨에서 각각의 보이는 레이어의 효과들은 선택된 축에서 미러되고 현재 활성화된 레이어에 저장됩니다.
대칭 기능은 마스크된 영역을 고려하고 마스크된 영역(마스크된 오브젝트)나 마스크되지 않은(평균화시키기) 영역에만 영향을 줍니다.
여기서 대칭 축을 정의할 수 있습니다.
마스크 적용된 레이어
이 명령은 현재 활성화된 레이어의 마스크된 영역만 미러합니다. 마스크가 없으면, 이 기능은 활성화되지 않습니다. 마스크된 영역과 마스크되지 않은 영역 사이의 트랜지션이 갑작스럽게 됩니다. 즉, 수동으로 정밀조정이 필요할 수 있습니다. (예. 스무스 브러쉬를 사용해서)
마스크 적용된 오브젝트
이 명령은 보이는 마스크된 영역을 미러합니다. 이 옵션은 앞서 설명한 옵션보다 더 실용적입니다. 현재 선택된 레이어에 대해 신경쓸 필요가 없습니다. 모든 보이는 요소들이 미러됩니다.
평균화시키기
다른 대칭 기능과는 달리, 보이는 모든 변형은 미러만 되지 않습니다 - 변형은 보다 균일한 오브젝트를 만들기 위해서 양쪽의 평균이 됩니다. 예를 들어, 오브젝트에 미러될 포인트가 수직으로 10 위치에 있으면, 평균화시키기기능을 사용하면 2개의 포인트가 생성되고, 각각의 수직 위치는 5가 됩니다.
이 명령은 오브젝트를 완벽하게 대칭이 되도록 만들기 위해서 사용됩니다.
마스크된 영역은 미러되고 평균화되지 않습니다. 완전한 미러(완전히 마스크됨)에서 평균화(약한 마스크)로 전환되는 영역을 조절하기 위해서 마스크를 약하게 사용할 수 있습니다.
마스크는 미러된 오브젝트의 절반에서만 사용할 수 있음에 주의하세요. 두쪽 모두 마슼되어 있으면, 하나의 마스크만 동작합니다.