Neuheiten in Cinema 4D R21

• Neues Lizenzierungssystem für Cinema 4D.
• Neue, verbesserte Deckflächen (z.B. beim Extrudieren-Objekt).
• Der Projekt-Asset-Inspektor – als Ersatz für den Textur-Manager – verwaltet jetzt sämtliche Projekt-Assets.
• Neues UV-Transformationswerkzeug.
• Neue Auto-Wichtungsoptionen für Joints.
• ProRender-Materialien können jetzt ebenfalls aus Nodes zusammengesetzt werden.
• Der Post Effekt "Denoiser" kann Ihnen lange Renderzeiten ersparen.
• Neuer Volumenfiltertyp Vektor.
• Der Volumenerzeuger kann jetzt auch Volumenvektoren (räumliche Vektorverteilungen) erzeugen.
• Neues Kraftfeldobjekt, das Kräfte aus Feldern erzeugt.
• Mit ProRender können jetzt Volumen gerendert werden.
• Neuer Maxon License Server.
• Auf vielfachen Wunsch ist neben der nach wie vor vorhandenen Online-, jetzt auch wieder eine Offline-Hilfe erhältlich.
• Neue Nodes für Standard-/ Physikalischen Renderer.
• Neue Anzeigeoptionen für die Ansicht.
• Es kann jetzt ein Mac-konformes Hauptmenü angezeigt werden.
• Die Texturansicht kann jetzt auch per Antialiasing geglättet werden.
• Geänderte Funktionalität beim Starten von Cinema 4D mit minimalen OpenGL-Ansichtseinstellungen.
• Neue, anzupassende Asset-Abfrage.
• Das neue Schnellstartfenster kann in den Programmvoreinstellungen aktiviert/deaktiviert werden.
• Im Material-Manager kann jetzt das voreingestellte Material definiert werden.
• Einige Verbesserungen bei den Import-/Export-Dialogen
• Leichteres Zurücknehmen von Benutzeroberflächenfarbänderungen.
• Das Interface-Element "Funktionsgraph" hat 2 neue Befehle.
• Seit Cinema 4D R20 können Unterfelder zur besseren Übersicht jetzt direkt in der Felderliste definiert werden.
• Neuorganisation der Richtungs-Remapping-Einstellungen für die Feldobjekte.
• Zwei neue Einstellungen für das Zufallsfeld.
• Neue Feldebene "Kanalwandler".
• Neue Option für die Punktobjektfeldebene.
• Neue Option für wichtungsbasierende Tags (z.B. Vertex-Map) beim Einsatz in Feldern.
• Punkte und Polygone können zwischen verschiedenen Objekten kopiert und eingefügt werden.
• Eine neue Option für das das Werkzeug "Selektion vergrößern".
• Diverse, kleinere Neuerungen im Modelling-Bereich.
• "Objekte verbinden " und "Objekte verbinden und löschen" haben zusätzliche Funktionalitäten.
• Der Standard-Partikel-Emitter hat eine neue Option "Relative Geschwindigkeit".
• Der Standard-Renderer und der Physikalische Renderer haben jetzt den Multi-Pass "Albedo".
• Multi-Passes wurden durch AOV ergänzt.
• Einführung von "Node Spaces", welche für spezifische Renderer spezifische Nodes zugänglich machen.
• Befehl, um beim Kauf eines Plug-Ins Lizenzinformationen zu exportieren.
• Neues Benutzerdaten-Tag.
• Felder wirken jetzt auch auf Normalen-Tags.
• Vertex-Map-Tags (u.ä.), die als Felder verwendet werden, wirken jetzt auch korrekt in ihren deformierten Zuständen.
• Änderungen in der Materialneuerzeugung.
• Der Variations-Shader hat eine neue Option "Materialname".
• Neue Eingangs- und Ausgangs-Nodes führen Ports aus Gruppen nach außen.
• Assets können jetzt verschlüsselt exportiert und weitergegeben werden.
• Mit dem Resource-Editor können Sie für Node-Materialien Benutzerschnittstellen konfigurieren.
• Im Bild-Manager finden Sie jetzt beim Filter ein "Filmic"-Tone Mapping.
• Kleinere Neuerungen bei der UV-Funktionalität.
• Neue HUD-Elemente in der Texturansicht.
• Neue Funktionalität beim Farbwähler.
• Der neue Thinking Particles Node "P Kraftobjekt" lässt das Kraftobjekt auch auf Thinking Particles wirken.
• ProRender kann seine Shader jetzt zu einem beliebigen Zeitpunkt kompilieren.
• ProRender kann einige neue Multi-Passes ausgeben.
• Der Volumenerzeuger hat für den Modus "Vektor" einige spezielle Mischmodi.
• Der Volumenerzeuger hat bei Spline-Verwendung zwei neue Skalierungseinstellungen.
• Der Volumenerzeuger kann zwischengespeichert werden, um Rechenzeit zu sparen.
• Der Volumenmesher kann jetzt eine Krümmungs-Map zur gezielten Texturierung von konkaven/konvexen Bereichen bereitstellen.
• Für alle CAD-Importe kann jetzt die Art der Instanzen festgelegt werden.
• Jeder Feldebene kann jetzt eine Maske verliehen werden.